The Effect of X-ray Exposure on Ba2SiO4:Eu3+
| Verfasserangaben: | M.-F. Volhard, Thomas Jüstel |
|---|---|
| DOI: | https://doi.org/10.1016/j.optcom.2017.10.050 |
| Titel des übergeordneten Werkes (Englisch): | Opt. Communications |
| Dokumentart: | Beitrag in einer (wissenschaftlichen) Zeitschrift |
| Sprache: | Englisch |
| Datum der Veröffentlichung (online): | 14.05.2019 |
| Jahr der Erstveröffentlichung: | 2018 |
| Betreiber des Publikationsservers: | FH Münster - University of Applied Sciences |
| Datum der Freischaltung: | 14.05.2019 |
| Band / Jahrgang: | 410 |
| Seitenzahl: | 617 |
| Erste Seite: | 622 |
| Fachbereiche: | Chemieingenieurwesen (CIW) |
| Publikationsliste: | Jüstel, Thomas |
| Lizenz (Deutsch): |  Bibliographische Daten |