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Bias-plasma for RF magnetron sputter deposition of passivating amorphous silicon layers

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Verfasserangaben:Sebastian Gerke, Giso Hahn, Reinhart Job, Barbara Terheiden
DOI:https://doi.org/10.1016/j.egypro.2015.12.302
Titel des übergeordneten Werkes (Englisch):Energy Procedia
Dokumentart:Beitrag in einer (wissenschaftlichen) Zeitschrift
Sprache:Englisch
Jahr der Fertigstellung:2015
Jahr der Erstveröffentlichung:2015
Datum der Freischaltung:11.01.2019
Band / Jahrgang:77
Erste Seite:75
Letzte Seite:82
Fachbereiche:Elektrotechnik und Informatik (ETI)
Publikationsliste:Job, Reinhart
Lizenz (Deutsch):License LogoBibliographische Daten