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A New Method to Increase the Doping Efficiency of Proton Implantation in a High-Dose Regime

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Verfasserangaben:Moriz Jelinek, G. Johannes, Reinhart Laven, Werner Job, Hans-Joachim Schustereder, Mathias Schulze, Lothar Rommel
Titel des übergeordneten Werkes (Englisch):E. Simoen, C. Claeys, O. Kakatsuka, R. Falster, C. Mazuré (Editors): High Purity Silicon XIII, ECS Transactions 64(11)
Dokumentart:Beitrag in einem Buch (Kapitel)
Sprache:Englisch
Jahr der Fertigstellung:2014
Jahr der Erstveröffentlichung:2014
Datum der Freischaltung:11.01.2019
Erste Seite:199
Letzte Seite:208
Fachbereiche:Elektrotechnik und Informatik (ETI)
Publikationsliste:Job, Reinhart
Lizenz (Deutsch):License LogoBibliographische Daten